杜邦电子材料控股申请使用化学机械抛光垫的抛光方法专利，实现高效抛光

2025年4月4日消息，国家知识产权局信息显示，杜邦电子材料控股股份有限公司申请一项名为“使用化学机械抛光垫的抛光方法”的专利，公开号 CN 119748318 A，申请日期为 2024 年 9 月。
专利摘要显示，一种抛光方法包括提供待平坦化的衬底；提供具有抛光层的化学机械抛光垫，该抛光层包含聚氨酯和基于该抛光层的总重量 1wt％至 20wt％的分散在该聚氨酯中的非反应性的、不可膨胀的聚合物颗粒以及小于 2wt％的可膨胀的聚合物微球；调节该抛光层以形成调节的抛光层；停止该调节；用具有该调节的抛光层的垫对该衬底进行抛光；停止该抛光；重新调节该抛光层以形成重新调节的抛光层；停止该重新调节；以及在该衬底或第二衬底上开始额外的抛光。